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華為、長虹、康佳、兆馳等公布MicroLED專利

字體變大  字體變小 發(fā)布日期:2024-03-19  瀏覽次數(shù):1303
核心提示:近日、華為、長虹、康佳、兆馳半導體、廈門大學相繼公布了Micro LED發(fā)明專利,涉及提升Micro LED光效、提高巨量轉(zhuǎn)移效率、Micro LED屏幕指紋識別應用等。
近日、華為、長虹、康佳、兆馳半導體、廈門大學相繼公布了Micro LED發(fā)明專利,涉及提升Micro LED光效、提高巨量轉(zhuǎn)移效率、Micro LED屏幕指紋識別應用等。


華為:申請Micro LED顯示面板專利,可增大發(fā)光區(qū)面積提升光效

據(jù)國家知識產(chǎn)權局公告,華為技術有限公司申請一項名為“一種Micro LED顯示面板、顯示設備及制造方法“,公開號:CN117690946A,申請日期為2022年9月。該方案可以增大發(fā)光區(qū)面積,提升光效。不需要巨量轉(zhuǎn)移,提高合格率。防止光串擾,利于電流分布均勻。

圖片來源:國家知識產(chǎn)權局

具體專利摘要內(nèi)容如下:本申請公開了一種Micro LED顯示面板、顯示設備及制造方法,包括多個顯示結(jié)構,每個顯示結(jié)構包括:第一電極、第二電極、第一半導體層、第二半導體層和發(fā)光層;相鄰的顯示結(jié)構的第一電極、第一半導體層和發(fā)光層相互獨立;第一半導體層和第二半導體層分別位于發(fā)光層的兩側(cè)表面;第一電極位于第一半導體層背離發(fā)光層的一側(cè),第二電極位于第二半導體層背離發(fā)光層的一側(cè);每個顯示結(jié)構的發(fā)光層對應一個像素區(qū);第二電極圍繞每個像素區(qū)走線,第二電極為各個像素區(qū)的公共電極,且為相鄰像素區(qū)之間的金屬擋墻。

長虹電子:公布兩項Micro LED發(fā)明專利

3月12日,長虹電子與啟?丝萍脊剂“Micro LED表面結(jié)構及制備方法”的發(fā)明專利,申請公布號: CN117693216A 。

圖片來源:國家知識產(chǎn)權局

為了提高量子點光提取效率及準直效果,該專利提供了Micro LED表面結(jié)構及制備方法,通過在Micro LED芯片表面構造金屬納米環(huán)結(jié)構,當納米環(huán)結(jié)構參數(shù)與中心量子點光波長相匹配時,會產(chǎn)生強烈的準直效應,可實現(xiàn)發(fā)出光線的定向準直功能;底部金屬反射器收集量子點光源向下發(fā)出的光線,并反射至芯片發(fā)光方向,增加了發(fā)光方向的光子數(shù),從而大大增加了量子點Micro LED芯片在垂直方向上的光提取效率。

另外,3月15日,長虹電子與啟睿克科技共同公開了一項發(fā)明專利,名為“一種基于Micro LED的屏幕指紋識別裝置和方法”,申請公布號:CN117711037A。

圖片來源:國家知識產(chǎn)權局

為了解決目前的Micro LED的屏幕指紋識別需要設置額外的傳感器,產(chǎn)生額外的光口比的問題,以及需要用戶觸摸指定的區(qū)域進行解鎖,操作不簡便的問題;

該專利發(fā)明提供一種基于Micro LED屏幕的指紋識別裝置,當需要指紋識別功能時,觸摸感應模塊確認手指的按壓位置,手指下方的第一LED芯片用作指紋識別的光源,與第二LED芯片連接的像素驅(qū)動電路測量第一LED芯片發(fā)射的光線經(jīng)過指紋凸起和凹陷處的反射光在第二LED芯片上產(chǎn)生的光電流的電壓差,確定指紋的形狀;指紋識別功能完成,Micro LED屏幕恢復正常顯示狀態(tài)。

康佳:Micro LED保護膜、結(jié)構、顯示裝置及電子設備

3月12日,深圳康佳電子科技有限公司“Micro LED保護膜、Micro LED結(jié)構、顯示裝置及電子設備”的發(fā)明專利進入授權階段。

該發(fā)明專利利用半透膜邊緣的吸光材料吸收大角度的光線,有效改善了拼接縫亮線問題。

圖片來源:國家知識產(chǎn)權局

具體專利摘要內(nèi)容如下:本發(fā)明公開了一種Micro LED保護膜、Micro LED結(jié)構、顯示裝置及電子設備,Micro LED保護膜包括吸光材料以及單層半透膜或復合層半透膜,單層半透膜的邊緣包圍有吸光材料,復合層半透膜包括由內(nèi)而外依次疊置的多層折射率相同或不同的半透膜,復合層半透膜的邊緣包圍有吸光材料。


兆馳半導體:一種Micro LED巨量轉(zhuǎn)移方法

3月15日,兆馳半導體的發(fā)明專利“一種Micro LED巨量轉(zhuǎn)移方法”公布,申請公布號CN117712241A。該技術無需高精度設計,可根據(jù)芯片的不同高度進行黏附轉(zhuǎn)移,且能提高轉(zhuǎn)移速率,并保證轉(zhuǎn)移的高良率。

圖片來源:國家知識產(chǎn)權局

具體專利摘要內(nèi)容如下:本發(fā)明提供一種Micro LED巨量轉(zhuǎn)移方法,包括以下步驟:提供一襯底,并在襯底上制備芯片;提供一基板,并在基板一面設置鍵合膜;將基板與襯底進行臨時鍵合;對芯片進行襯底剝離;在芯片遠離基板的一側(cè)設置柱體;提供一轉(zhuǎn)移頭,將轉(zhuǎn)移頭的第三粘合部貼合柱體,以基于各柱體的高度差,同時將多個第一芯片或第二芯片或第三芯片從基板轉(zhuǎn)移至電路板。通過采用光固化樹脂,選擇性固化出不同高度的芯片底座,并基于UV解粘膠的光照降低芯片與基板之間的粘性,最后基于高粘度的轉(zhuǎn)移頭對芯片進行批量轉(zhuǎn)移。

廈門大學:提升Micro LED光提取效率

3月15日,廈門大學公布了一項發(fā)明專利,名為“一種提升光提取效率的Micro LED器件結(jié)構及制作方法”。申請公布號:CN117712263A。該發(fā)明通過減小電流密度差異,提高電子在材料中的遷移率,以改善電流在器件中的分布,降低電流密度,并減緩電流擁擠效應。從而大幅度提升器件性能。

圖片來源:國家知識產(chǎn)權局

具體來看,該發(fā)明公開了一種提升光提取效率的Micro LED器件結(jié)構及制作方法,其結(jié)構的外延層由背面至正面按序包括n-GaN層、MQW和p-GaN層,并通過由正面蝕刻至n-GaN層形成發(fā)光臺面,第一電流擴展層設于發(fā)光臺面的p-GaN層上,p電極和n電極分別設于第一電流擴展層和n-GaN層上,鈍化層、反射層和絕緣層按序覆蓋器件結(jié)構的正面,p電極和n電極分別通過貫穿鈍化層、反射層和絕緣層的鍵合金屬引出;n-GaN層在發(fā)光臺面區(qū)域通過蝕刻形成若干通孔,第二電流擴展層填充于通孔中。

 
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